WS₂ FET Device
소자 사양:
포장: Single device (1 unit per package)
소자 치수: 1 cm x 1 cm
기판: SiO₂/Si (Silicon with 300 nm SiO₂ layer)
소자 구조:
SiO₂/Si 기판 / WS₂ 채널 / Au 또는 Cr+Au 전극
소자 설명 및 특징:
표준 2차원 반도체: 이황화텅스텐(WS₂)은 단일층 기준 직접 밴드갭(~2.0 eV)을 가지며 다층에서는 간접 밴드갭을 나타내는 층상 전이금속 디칼코게나이드(TMD)로, 표준 전자 및 광전자 응용에 적합합니다. 백게이트 FET 구성: SiO₂/Si 기판이 전역 백게이트 역할을 하여 WS₂ 채널에 고효율 정전 제어를 제공합니다. 안정적인 n형 또는 양극성 전도도: WS₂는 높은 전자 이동도를 나타내며, 특정 게이팅 조건에서는 양극성 수송 특성을 보일 수 있습니다. 기계적으로 박리하거나 CVD로 성장한 WS₂: 높은 결정 품질, 적은 결함, 우수한 전하 수송 특성을 제공합니다.
오믹 접촉 엔지니어링: Au 또는 Cr+Au 전극이 저저항 금속 접촉을 형성하여 캐리어 주입을 최적화합니다.
주요 용도:
표준 전계효과 트랜지스터(FET):
WS₂ FET는 높은 전자 이동도, 우수한 게이트 튜너빌리티, 높은 온/오프 전류비를 나타내어 특수 나노전자소자에 활용됩니다. 유연 및 투명 전자소자:
WS₂의 기계적 유연성과 광학적 투명도로 인해 웨어러블 전자소자, 투명 회로, 유연 트랜지스터에 사용됩니다. 광전자 및 광검출기
주요 용도:
단일층 WS₂의 직접 밴드갭 특성은 광검출기, LED, 광기전력 응용에 적합합니다. 스핀트로닉스 및 양자 수송:
WS₂의 강한 스핀-궤도 결합은 스핀트로닉스 및 양자소자 응용 가능성을 제공합니다.
| 옵션 1 | Few-layer (~5 layers), Multilayer (~10 layers) |
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