Iron (Fe) Sputtering Target, 99.95% Purity, Circular

Iron (Fe) Sputtering Target, 99.95% Purity, Circular

Nanostore의 Iron (Fe) 스퍼터링 타겟은 순도 99.95%의 강자성 금속 PVD 소스 재료로, 마그네트론 스퍼터링, 이온 스퍼터링, 실험실 박막 증착에 사용됩니다. 클린 취급, 치수 일관성, 일정한 소재 특성이 중요한 연구, 개발, 소량 공정 작업을 위해 원형 타겟 형상으로 공급됩니다.

Key Features

Source Material
순도 99.95%로 공급되며, 제어된 소스 조성과 안정적인 증착 거동이 요구되는 박막 공정에 사용됩니다.

Circular Target Formats
1 inch diameter (25.4 mm), 1.97 inch diameter (50 mm), 2 inch diameter (50.8 mm), 2.36 inch diameter (60 mm), 3 inch diameter (76.2 mm), 3.15 inch diameter (80 mm), 4 inch diameter (101.6 mm), 3.94 inch diameter (100 mm)를 포함한 원형 직경으로 제공됩니다. 두께 및 장착 옵션은 선택한 구성에 따라 3 mm thick, 4 mm thick, 5 mm thick, 6 mm thick, 2 mm thick, 1 mm thick, 1.5 mm + 3 mm Cu backing, 6.35 mm thick 중에서 제공됩니다.

Controlled Processing and Inspection
타겟 준비 과정에는 소재 선정, 성형, 열처리, 정밀 가공, 치수 검사, 표면 처리, 세정, 최종 품질 검토가 포함될 수 있습니다. 조성 및 불순물 관리는 필요에 따라 ICP, GDMS, 탄소/황 분석, 산소/질소 분석, 금속조직 검사 등의 분석 방법으로 뒷받침될 수 있습니다.

Clean Handling and Packaging
타겟은 클린 표면 취급과 보호 포장을 거쳐 증착 공정용으로 준비됩니다. 밀봉 상태로 건조한 환경에 보관하고, 클린 장갑을 착용하여 취급하며, 설치 전에는 오일, 먼지, 수분 등 표면 오염 물질과의 직접 접촉을 피하십시오.

Mounting Configuration Note
본 제품에서 선택 가능한 구성에는 1.5 mm + 3 mm Cu backing 등의 장착 옵션이 포함됩니다. 스퍼터링 소스 형상 및 캐소드 요구 사항에 따라 순수 타겟, Cu 백킹 타겟, 및/또는 마그네틱 심 구성 중에서 선택하십시오.

Material Properties and Technical Indicators

다음 재료 특성 값은 소재 선정, 소스 로딩, 공정 계획, 박막 증착 평가를 위한 참고용 기술 지표로 제공됩니다:

– 원소 기호: Fe
– CAS 번호: 7439-89-6
– 밀도: 7.874 g·cm⁻³
– 물리적 상태: solid
– 융점: 1538 °C
– 비등점: 2862 °C
– 융해열: 13.81 kJ·mol⁻¹
– 기화열: 340 kJ·mol⁻¹
– 비열: 25.10 J·mol⁻¹·K⁻¹
– 결정 구조: body-centered cubic
– 열팽창 계수: (25 °C) 11.8 µm·m⁻¹·K⁻¹
– 열전도율: 80.4 W·m⁻¹·K⁻¹
– 전기 비저항: (20 °C) 96.1 nΩ·m
– 영률: 211 GPa
– 전단 탄성률: 82 GPa
– 체적 탄성률: 170 GPa
– 모스 경도: 4
– 비커스 경도: 608 MPa
– 브리넬 경도: 490 MPa
– 푸아송 비: 0.29

Common Applications

– 자성 박막 연구; Fe 기반 합금 및 다층막 개발; 전극 및 접점층 연구; PVD 공정 개발
– 학술, 산업, 파일럿 규모의 박막 공정 개발