Chromium Vanadium Alloy (CrV) Sputtering Target, 99.9% Purity, Cr:V = 1:1 at%, Circular (Price Upon Request)

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설명
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ZHC LAB의 Chromium Vanadium Alloy (CrV) 스퍼터링 타겟은 마그네트론 스퍼터링, 이온 스퍼터링, 실험실 박막 증착에 사용되는 99.9%(cr:v = 1:1 at%) 순도의 2원계 전이금속 합금 PVD 소스 재료입니다. 청결한 취급, 치수 일관성, 지정된 소재 특성이 중요한 연구, 개발, 소량 생산 공정을 위해 원형 타겟 형태로 공급됩니다. 최종 가격은 선택한 치수 및 현재 소재 시장 상황에 따라 달라지므로, 가격은 문의 시 안내해 드립니다.

주요 특징

연구용 소스 재료
순도 99.9%(Cr:V = 1:1 at%)로 공급되며, 제어된 소스 조성과 안정적인 증착 거동이 요구되는 박막 공정에 사용됩니다.

원형 타겟 형상
3 inch diameter (76.2 mm) 등 다양한 원형 직경으로 제공됩니다. 두께 및 장착 옵션은 선택한 구성에 따라 5 mm thick 등이 포함됩니다.

관리된 가공 및 검사
타겟 제조 공정에는 소재 선정, 성형, 열처리, 정밀 가공, 치수 검사, 표면 마감, 세정, 최종 품질 검토가 포함될 수 있습니다. 조성 및 불순물 관리를 위해 필요에 따라 ICP, GDMS, 탄소/황 분석, 산소/질소 분석, 금속조직 검사 등의 분석 방법이 활용될 수 있습니다.

클린 취급 및 포장
타겟은 클린 표면 취급 및 보호 포장을 통해 증착 공정에 사용할 수 있도록 준비됩니다. 밀봉 상태로 건조한 환경에 보관하고, 클린 장갑을 착용하여 취급하며, 장착 전까지 오일, 먼지, 수분 등 기타 표면 오염물질과의 직접 접촉을 피하십시오.

기술 사양

재질: Chromium Vanadium Alloy (CrV)
순도/조성: 99.9% Purity, Cr:V = 1:1 at%
형상: Circular sputtering target
지원 직경: 3 inch diameter (76.2 mm)
지원 두께/백킹 옵션: 5 mm thick
호환 장비: 단일 타겟 스퍼터링 시스템, 다중 타겟 스퍼터링 시스템, 이온 스퍼터링 시스템, 마그네트론 스퍼터링 장비
포장: 실험실 배송 및 보관을 위한 보호용 타겟 포장

주요 용도

– CrV 합금 박막 증착; 경질 코팅 및 전이금속 합금 연구; 보호막 및 금속화 박막 연구; Cr-V PVD 공정 개발
– 학술, 산업, 파일럿 규모의 박막 공정 개발