Aluminum (Al) Sputtering Target, 99.999% Purity, SEM Coating Grade, Circular

Aluminum (Al) Sputtering Target, 99.999% Purity, SEM Coating Grade, Circular

Nanostore の Aluminum (Al) スパッタリングターゲットは、マグネトロンスパッタリング、イオンスパッタリング、および実験室での薄膜成膜向けの、純度 99.999%（SEM コーティンググレード）の金属 PVD ソース材料です。研究、開発、小ロットのプロセス作業向けに円形ターゲット形状で供給されます。

主な特長

ソース材料
薄膜ワークフロー向けに純度 99.999%（SEM コーティンググレード）で供給されます。

円形ターゲット形状
円形直径は 2.28 inch diameter (58 mm), 2.24 inch diameter (57 mm), 2.13 inch diameter (54 mm) などをご用意しています。厚さおよび取付オプションには、選択される構成に応じて 1 mm thick, 0.2 mm thick, 0.1 mm thick, 0.5 mm thick などがあります。

管理された加工と検査
ターゲットの作製には、材料選定、成形、熱処理、機械加工、寸法検査、表面仕上げ、洗浄、最終品質確認が含まれる場合があります。組成および不純物の管理には、必要に応じて ICP、GDMS、炭素／硫黄分析、酸素／窒素分析、金属組織検査などの分析手法が用いられる場合があります。

クリーンな取り扱いと梱包
ターゲットは、クリーンな表面取り扱いと保護梱包により成膜用途向けに準備されます。乾燥した環境で密封して保管し、清潔な手袋で取り扱い、取り付け前に油分、粉塵、湿気、その他の表面汚染との直接接触を避けてください。

技術仕様

材質: Aluminum (Al)
純度／組成: 99.999% Purity, SEM Coating Grade
形状: Circular sputtering target
対応直径: 2.28 inch diameter (58 mm), 2.24 inch diameter (57 mm), 2.13 inch diameter (54 mm)
対応厚さ／バッキングオプション: 1 mm thick, 0.2 mm thick, 0.1 mm thick, 0.5 mm thick
対応装置: Single-target sputtering systems, multi-target sputtering systems, ion sputtering systems, and magnetron sputtering equipment
梱包: Protective target packaging for laboratory shipment and storage

主な用途

– SEM 試料コーティング；アルミニウム薄膜の成膜；電子顕微鏡試料の作製；Al PVD プロセス開発
– 学術・産業・パイロットスケールの薄膜プロセス開発