Vanadium (V) Sputtering Target, 99.9% Purity, Circular

Vanadium (V) Sputtering Target, 99.9% Purity, Circular (Price Upon Request)

Nanostore의 Vanadium (V) 스퍼터링 타겟은 마그네트론 스퍼터링, 이온 스퍼터링, 실험실 박막 증착에 사용되는 순도 99.9%의 전이 금속 PVD 소스 재료입니다. 클린 취급, 치수 일관성, 일관된 소재 동일성이 중요한 연구, 개발 및 소량 공정 작업을 위해 원형 타겟 형상으로 공급됩니다. 최종 가격은 선택한 치수와 현재 소재 시장 상황에 따라 달라지므로, 가격은 문의 시 안내해 드립니다.

주요 특징

소스 재료
순도 99.9%로 공급되며, 제어된 소스 조성과 안정적인 증착 거동이 요구되는 박막 공정에 사용됩니다.

원형 타겟 형상
1 inch diameter (25.4 mm), 1.97 inch diameter (50 mm), 2 inch diameter (50.8 mm), 2.36 inch diameter (60 mm), 3 inch diameter (76.2 mm), 3.15 inch diameter (80 mm), 4 inch diameter (101.6 mm), 3.94 inch diameter (100 mm) 등의 원형 직경으로 제공됩니다. 두께 및 장착 옵션은 선택한 구성에 따라 3 mm thick, 4 mm thick, 5 mm thick, 6 mm thick, 6.35 mm thick 등이 있습니다.

관리된 가공 및 검사
타겟 제조 공정에는 소재 선정, 성형, 열처리, 정밀 가공, 치수 검사, 표면 처리, 세정 및 최종 품질 검토가 포함될 수 있습니다. 조성 및 불순물 관리는 필요에 따라 ICP, GDMS, 탄소/황 분석, 산소/질소 분석, 금속조직 검사 등의 분석 방법으로 지원될 수 있습니다.

클린 취급 및 포장
타겟은 클린 표면 취급과 보호 포장을 거쳐 증착 공정에 사용할 수 있도록 준비됩니다. 설치 전에는 건조한 환경에서 밀봉 보관하고, 클린 장갑을 착용하여 취급하며, 오일, 먼지, 수분 및 기타 표면 오염 물질과의 직접 접촉을 피해야 합니다.

재료 특성 및 기술 지표

다음 재료 특성 값은 소재 선정, 소스 장착, 공정 설계 및 박막 증착 평가를 위한 참고용 기술 지표로 제공됩니다:

– 원소 기호: V
– CAS 번호: 7440-62-2
– 밀도: 6.0 g·cm⁻³
– 물리적 상태: solid
– 융점: 1910°C
– 비등점: 3407°C
– 융해열: 21.5 kJ·mol⁻¹
– 기화열: 444 kJ·mol⁻¹
– 비열: 24.89 J·mol⁻¹·K⁻¹
– 결정 구조: body-centered cubic
– 열팽창 계수: (25 °C) 8.4 µm/(m·K)
– 열전도율: 30.7 W·m⁻¹·K⁻¹
– 전기 비저항: (20 °C) 197 nΩ·m
– 영률: 128 GPa
– 전단 탄성률: 47 GPa
– 체적 탄성률: 160 GPa
– 모스 경도: 6.7
– 브리넬 경도: 750 MPa
– 푸아송 비: 0.37

주요 용도

– vanadium 박막 증착; 전이금속 코팅 연구; 배터리 및 촉매 소재 연구; V PVD 공정 개발
– 학계, 산업계 및 파일럿 규모의 박막 공정 개발