Iridium (Ir) Sputtering Target, 99.95% Purity, Circular (Request Current Price)

Iridium (Ir) Sputtering Target, 99.95% Purity, Circular

Nanostore의 Iridium (Ir) 스퍼터링 타겟은 마그네트론 스퍼터링, 이온 스퍼터링, 실험실용 박막 증착에 사용되는 순도 99.95% 귀금속 PVD 소스 재료입니다. 연구, 개발, 소량 공정 작업을 위해 원형 타겟 형상으로 공급됩니다.

주요 특징

소스 재료
순도 99.95%로 공급되며, 명시된 소스 조성이 요구되는 박막 공정에 사용됩니다.

원형 타겟 형상
1 inch diameter (25.4 mm), 1.97 inch diameter (50 mm), 2 inch diameter (50.8 mm), 2.36 inch diameter (60 mm), 3 inch diameter (76.2 mm), 3.15 inch diameter (80 mm), 4 inch diameter (101.6 mm), 3.94 inch diameter (100 mm) 등의 원형 직경으로 제공되며, 두께 및 장착 옵션은 선택한 구성에 따라 3 mm thick, 4 mm thick, 5 mm thick, 6 mm thick, 2 mm thick, 1 mm thick, 0.2 mm thick 등이 있습니다.

관리된 가공 및 검사
타겟 제조 공정에는 소재 선정, 성형, 열처리, 가공, 치수 검사, 표면 처리, 세척, 최종 품질 검토가 포함될 수 있습니다. 조성 및 불순물 관리는 필요에 따라 ICP, GDMS, 탄소/황 분석, 산소/질소 분석, 금속조직 검사 등의 분석 방법으로 지원될 수 있습니다.

클린 취급 및 포장
타겟은 클린 표면 취급과 보호 포장을 거쳐 증착 공정용으로 준비됩니다. 밀봉 상태로 건조한 환경에 보관하고, 클린 장갑을 착용하여 취급하며, 설치 전에는 오일, 먼지, 수분 등 표면 오염 물질과의 직접 접촉을 피하십시오.

재료 특성 및 기술 지표

다음 재료 특성 값은 소재 선정, 소스 로딩, 공정 계획, 박막 증착 평가를 위한 참고용 기술 지표로 제공됩니다:

– 원소 기호: Ir
– CAS 번호: 7439-88-5
– 밀도: 22.56 g·cm⁻³
– 물리적 상태: solid
– 융점: 2446 °C
– 비등점: 4428 °C
– 융해열: 41.12 kJ·mol⁻¹
– 비열: 25.10 J·mol⁻¹·K⁻¹
– 결정 구조: face-centered cubic
– 열팽창 계수: 6.4 µm·m⁻¹·K⁻¹
– 열전도율: 147 W·m⁻¹·K⁻¹
– 전기 비저항: (20 °C) 47.1 nΩ·m
– 영률: 528 GPa
– 전단 탄성률: 210 GPa
– 체적 탄성률: 320 GPa
– 모스 경도: 6.5
– 비커스 경도: 1760 MPa
– 푸아송 비: 0.26

주요 용도

– 이리듐 박막 증착; 전극 및 촉매 코팅 연구; 귀금속 접점 및 부식 연구; Ir PVD 공정 개발
– 학술, 산업, 파일럿 규모 박막 공정 개발