Indium Oxide (In₂O₃) Sputtering Target, 99.99% Purity, Circular (Price Upon Request)

Indium Oxide (In₂O₃) Sputtering Target, 99.99% Purity, Circular (Price Upon Request)

Nanostore의 Indium Oxide (In₂O₃) 스퍼터링 타겟은 마그네트론 스퍼터링, 이온 스퍼터링, 실험실 박막 증착에 사용되는 순도 99.99%의 투명 전도성 산화물 세라믹 PVD 소스 재료입니다. 연구, 개발, 소량 공정 작업을 위해 원형 타겟 형상으로 공급됩니다. 가격은 최종 비용이 선택한 치수와 현재 소재 시장 상황에 따라 달라지므로 문의 시 안내됩니다.

주요 특징

소스 재료
순도 99.99%로 공급되며 박막 공정에 사용됩니다.

원형 타겟 형상
다음 원형 직경으로 제공됩니다: 1.97 inch diameter (50 mm), 2 inch diameter (50.8 mm), 2.36 inch diameter (60 mm), 3 inch diameter (76.2 mm), 4 inch diameter (101.6 mm), 3.15 inch diameter (80 mm), 3.94 inch diameter (100 mm). 두께 및 마운팅 옵션은 선택한 구성에 따라 3 mm thick, 3 mm + 2 mm Cu backing, 3 mm + 3 mm Cu backing, 3 mm + 2 mm Cu backing + magnetic shim, 3 mm + 3 mm Cu backing + magnetic shim 중 하나입니다.

관리된 가공 및 검사
타겟 제작은 소재 선정, 성형, 열처리, 가공, 치수 검사, 표면 마감, 세정, 최종 품질 검토를 포함할 수 있습니다. 조성 및 불순물 관리는 필요에 따라 ICP, GDMS, 탄소/황 분석, 산소/질소 분석, 금속조직 검사 등의 분석 방법으로 뒷받침될 수 있습니다.

클린 취급 및 포장
타겟은 증착 공정에 사용할 수 있도록 클린 표면 취급과 보호 포장을 거쳐 준비됩니다. 설치 전에는 건조한 환경에서 밀봉 보관하고, 클린 장갑을 착용하여 취급하며, 오일, 먼지, 수분 등 표면 오염원과의 직접 접촉을 피하십시오.

기술 사양

재질: Indium Oxide (In₂O₃)
순도/조성: 99.99% Purity
형상: Circular sputtering target
지원 직경: 1.97 inch diameter (50 mm), 2 inch diameter (50.8 mm), 2.36 inch diameter (60 mm), 3 inch diameter (76.2 mm), 4 inch diameter (101.6 mm), 3.15 inch diameter (80 mm), 3.94 inch diameter (100 mm)
지원 두께 / 백킹 옵션: 3 mm thick, 3 mm + 2 mm Cu backing, 3 mm + 3 mm Cu backing, 3 mm + 2 mm Cu backing + magnetic shim, 3 mm + 3 mm Cu backing + magnetic shim
장비: Single-target sputtering systems, multi-target sputtering systems, ion sputtering systems, and magnetron sputtering equipment
포장: Protective target packaging for laboratory shipment and storage

주요 용도

– indium oxide 박막 증착; 투명 전도성 산화물 연구; 광전자 및 센서 코팅 연구; In₂O₃ PVD 공정 개발
– 학계, 산업계, 파일럿 규모의 박막 공정 개발