Antimony (Sb) Sputtering Target, 99.99% Purity, Circular (Price Upon Request)

Antimony (Sb) Sputtering Target, 99.99% Purity, Circular (Price Upon Request)

ZHC LAB의 Antimony (Sb) 스퍼터링 타겟은 마그네트론 스퍼터링, 이온 스퍼터링, 실험실 박막 증착에 사용되는 순도 99.99%의 고순도 준금속 소재 PVD 소스 재료입니다. 클린 취급, 치수 일관성, 명시된 재료 정체성이 중요한 연구, 개발, 소량 공정 작업을 위해 원형 타겟 형상으로 공급됩니다. 가격은 문의 시 제공되며, 최종 비용은 선택한 치수와 현재 소재 시장 상황에 따라 달라집니다.

주요 특징

연구용 소스 재료
순도 99.99%로 공급되며, 소스 조성 제어와 안정적인 증착 거동이 요구되는 박막 공정에 사용됩니다.

원형 타겟 형상
지원되는 원형 직경: 1 inch diameter (25.4 mm), 1.97 inch diameter (50 mm), 2 inch diameter (50.8 mm), 2.36 inch diameter (60 mm), 3 inch diameter (76.2 mm), 3.15 inch diameter (80 mm), 4 inch diameter (101.6 mm), 3.94 inch diameter (100 mm). 두께 및 마운팅 옵션: 3 mm thick, 4 mm thick, 5 mm thick, 6 mm thick, 6.35 mm thick(선택한 구성에 따라 다름).

관리된 가공 및 검사
타겟 제조 공정에는 소재 선정, 성형, 열처리, 정밀 가공, 치수 검사, 표면 마감, 세정, 최종 품질 검토가 포함될 수 있습니다. 조성 및 불순물 관리는 필요에 따라 ICP, GDMS, 탄소/황 분석, 산소/질소 분석, 금속조직 검사 등의 분석 방법을 통해 이루어질 수 있습니다.

클린 취급 및 포장
타겟은 클린 표면 취급과 보호 포장을 거쳐 증착 공정에 사용할 수 있도록 준비됩니다. 건조한 환경에서 밀봉 보관하고 클린 장갑을 착용하여 취급하며, 설치 전에는 오일, 먼지, 수분 등 표면 오염원과의 직접 접촉을 피하십시오.

재료 특성 및 기술 지표

다음 재료 특성 값은 재료 선정, 소스 로딩, 공정 계획, 박막 증착 평가를 위한 참고용 기술 지표로 제공됩니다:

– 원소 기호: Sb
– CAS 번호: 7440-36-0
– 밀도: 6.697 g·cm⁻³
– 물리적 상태: solid
– 융점: 630.63 °C
– 비점: 1587 °C
– 융해열: 19.79 kJ·mol⁻¹
– 기화열: 193.43 kJ·mol⁻¹
– 비열: 25.23 J·mol⁻¹·K⁻¹
– 자기적 성질: diamagnetic
– 열팽창 계수: (25 °C) 11 µm·m⁻¹·K⁻¹
– 열전도율: 24.4 W·m⁻¹·K⁻¹
– 전기 비저항: (20 °C) 417 nΩ·m
– 영률: 55 GPa
– 전단 탄성률: 20 GPa
– 체적 탄성률: 42 GPa
– 모스 경도: 3.0
– 브리넬 경도: 294 MPa

주요 용도

– Sb 박막 증착; 반도체 및 열전 소재 연구; 칼코게나이드 화합물 박막 연구; Sb PVD 공정 개발
– 학술, 산업, 파일럿 규모의 박막 공정 개발