Gold (Au) Sputtering Target, 99.999% (5N) Purity, Circular, SEM Coating Grade (Price Upon Request)

Gold (Au) Sputtering Target, 99.999% (5N) Purity, Circular, SEM Coating Grade (Price Upon Request)

Nanostore の金（Au）スパッタリングターゲットは、マグネトロンスパッタリング、イオンスパッタリング、実験室での薄膜成膜向けの高純度貴金属 PVD ソース材料です。クリーンな取り扱い、明示された寸法、材料同一性が指定される研究、開発、小バッチプロセス作業向けに、円形ターゲット形状で供給されます。本材料の価格は、最終コストが直近の材料市況と選択される寸法に依存するため、お問い合わせに応じてご案内いたします。

主な特長

高純度ソース材料
成膜作業においてソース組成の管理が求められる薄膜ワークフロー向けに、99.999%（5N）純度で供給されます。

円形ターゲット形状
1.97 inch diameter (50 mm), 2.36 inch diameter (60 mm), 2.28 inch diameter (58 mm), 2.24 inch diameter (57 mm) を含む円形直径をご用意しています。厚さオプションには、選択する直径とターゲット構成に応じて 0.2 mm thick, 0.1 mm thick, 0.12 mm thick, 0.3 mm thick があります。

管理された加工と検査
ターゲットの準備には、材料選定、成形、熱処理、精密機械加工、寸法検査、表面仕上げ、クリーニング、最終品質確認が含まれる場合があります。組成と不純物の管理は、必要に応じて ICP、GDMS、炭素/硫黄分析、酸素/窒素分析、金属組織検査などの分析手法によりサポートされます。

クリーンな取り扱いと梱包
ターゲットは、クリーンな表面取り扱いと保護梱包により成膜用途向けに準備されます。密封したまま乾燥した環境で保管し、清浄な手袋を着用して取り扱い、取り付け前に油分、埃、湿気などによる表面汚染との直接接触を避けてください。

材料特性と技術指標

以下の材料特性値は、材料選定、ソース装填、プロセス計画、薄膜成膜評価のための参考技術指標として提供されます：

– 元素記号: Au
– CAS番号: 7440-57-5
– 密度: 19.30 g·cm⁻³
– 物理状態: solid
– 融点: 1064.18°C
– 沸点: 2856°C
– 融解熱: 12.55 kJ·mol⁻¹
– 比熱容量: 25.418 J·mol⁻¹·K⁻¹
– 結晶構造: 面心立方
– 磁気秩序: 反磁性
– 熱膨張係数: (25 °C) 14.2 µm·m⁻¹·K⁻¹
– 熱伝導率: 318 W·m⁻¹·K⁻¹
– 電気抵抗率: (20 °C) 22.14 nΩ·m
– ヤング率: 79 GPa
– せん断弾性率: 27 GPa
– 体積弾性率: 180 GPa
– ポアソン比: 0.44
– ビッカース硬さ: 216 MPa
– モース硬度: 2.5

主な用途

– SEM 試料の導電性コーティング；電子顕微鏡試料作製；貴金属薄膜コーティング；研究スケールの PVD コーティングワークフロー
– 学術・産業・パイロットスケールの薄膜プロセス開発