25-Slot Wafer Storage Box (Set of 3)
¥15,782このウェハー収納ボックスは、2 inch 結晶ウェハーの保管用に設計されています。1 箱あたり最大 25 枚のウェハーを収納できます。構造設計により、ウェハーの輸送・取り扱い時にウェハー同士が分離した状態で保持されます。…
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このウェハー収納ボックスは、2 inch 結晶ウェハーの保管用に設計されています。1 箱あたり最大 25 枚のウェハーを収納できます。構造設計により、ウェハーの輸送・取り扱い時にウェハー同士が分離した状態で保持されます。…
4-Inch Silicon Wafer Vertical Carrier Box / Wafer Boat Set 用途: 4-inch (100mm) シリコンウェハー、ガラス基板、その他の半導体材料の保管、輸送、取…
Alumina (Al₂O₃) Ceramic Wafer Discs 概要: 熱マネジメント、電子部品の絶縁、実験室研究向けの多結晶 aluminum oxide (Al₂O₃) セラミックウェハーディスクです。Dia…
Aluminum (Al) Single Crystal Substrates 主な用途: 記載の純度を持つ金属基板を必要とする、金属物理、表面科学、エピタキシャル成長研究における基礎研究向けです。 製品概要: 本製品は…
Aluminum Nitride (AlN) Ceramic Substrate 製品説明: Aluminum Nitride (AlN) セラミックスは、アルミナの 7-10 倍の熱伝導率を持ちます。特性として、低誘電…
Aluminum Nitride (AlN) Film on Sapphire Wafer Template 用途: AlGaN 系深紫外 LED、HEMT をはじめとするワイドバンドギャップ光電子デバイスのエピタキシャ…
Aluminum Nitride (AlN) Single Crystal Substrate 主な用途: ワイドバンドギャップと高い熱伝導率を活かし、UV-LED、高出力・高周波電子デバイス、弾性表面波(SAW)デバイ…
Aluminum Oxide (Al₂O₃) Thin Film on Si (100) Substrates – 10 × 10 mm 概要 当社の酸化アルミニウム(Al₂O₃)薄膜基板は、研究グレードの Al₂O₃ …
Aluminum Oxide (Al₂O₃) Thin Film on Si (100) Wafers 概要 当社の酸化アルミニウム(Al₂O₃)薄膜ウェハーは、高品質な Si (100) 基板上に作製されており、研究お…
Aluminum Scandium Nitride (AlScN) Film on Sapphire Wafer Template 用途: 5G RF SAW/BAW フィルターおよび MEMS センサー向けの基板材料と…
Aluminum Scandium Nitride (AlScN) Film on Silicon Wafer Template 用途: 5G RF フロントエンド SAW/BAW フィルター、MEMS 圧電センサー、お…
Aluminum-Coated Silicon Substrates (Al/Ti on Si (100)) 概要 当社のアルミニウムコートシリコン基板は、高真空マグネトロンスパッタリングにより Si (100) 基板上…
Aluminum-Coated Silicon Wafers (Al/Ti on Si (100)) 概要 当社のアルミニウムコートシリコンウェハーは、高真空マグネトロンスパッタリングにより作製されており、均一な膜厚、良…
Barium Fluoride (BaF₂) Optical Windows / IR Windows / BaF₂ Polished Substrates 製品概要 Barium Fluoride (BaF₂) 光学窓…
Barium Fluoride (BaF₂) Single Crystal Substrate 用途: BaF₂ は、そのシンチレーション成分により、高エネルギー物理向けのシンチレータ材料として使用されます。また、その透…
Barium Titanate (BaTiO₃) Single Crystal Substrate 主な用途: BaTiO₃ は代表的な強誘電体材料であり、高い誘電率と電気光学特性により、非線形光学、フォトリフラクティブ…
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