Molybdenum Disulfide (MoS₂) Film on 4-Inch Sapphire Wafer
¥580,821Molybdenum Disulfide (MoS₂) Film on 4-Inch Sapphire Wafer CAS番号: 1317-33-5 基板サイズ: 4-Inch Sapphire Wafer 作製方法: …
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Molybdenum Ditelluride (MoTe₂)
¥92,809Molybdenum Ditelluride (MoTe₂) CAS番号: 12058-20-7 基板サイズ: 1 cm x 1 cm 作製方法: Chemical Vapor Deposition (CVD) 形態オプ…
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Multilayer Graphene Grown on Ni Foils (5 cm x 10 cm)
¥129,501Multilayer Graphene Grown on Ni Foils (5 cm x 10 cm) CAS番号: 7782-42-5 基板サイズ: 5 cm x 10 cm 作製方法: 化学気相成長法（CVD） 形…
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Nickel Ditelluride (NiTe₂)
¥92,809Nickel Ditelluride (NiTe₂) 孤立結晶粒 CAS番号: 12034-83-2 作製方法: Chemical Vapor Deposition (CVD) 基板オプション: NiTe₂ の孤立結晶粒…
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Nitrogen-Doped Monolayer Graphene Grown on Cu Foils (5 cm x 10 cm)
¥92,809Nitrogen-Doped Monolayer Graphene Grown on Cu Foils (5 cm x 10 cm) Graphene CAS番号: N/A 基板サイズ: 5 cm x 10 cm 作製方…
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Palladium Diselenide (PdSe₂)
¥92,809Palladium Diselenide (PdSe₂) CAS番号: 60672-19-7 基板サイズ: 1 cm x 1 cm 作製方法: Chemical Vapor Deposition (CVD) 形態オプショ…
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Platinum Diselenide (PtSe₂)
¥92,809Platinum Diselenide (PtSe₂) CAS番号: 12038-26-5 基板サイズ: 1 cm x 1 cm 作製方法: Chemical Vapor Deposition (CVD) 基板オプション…
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Platinum Ditelluride (PtTe₂)
¥92,809Platinum Ditelluride (PtTe₂) CAS番号: 12038-29-8 基板サイズ: 1 cm x 1 cm 作製方法: Chemical Vapor Deposition (CVD) 形態オプショ…
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Rhenium Diselenide (ReSe₂)
¥92,809Rhenium Diselenide (ReSe₂) CAS番号: 12038-64-1 基板サイズ: 1 cm x 1 cm 作製方法: Chemical Vapor Deposition (CVD) 基板オプション:…
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Rhenium Disulfide (ReS₂)
¥92,809Rhenium Disulfide (ReS₂) CAS番号: 12038-63-0 基板サイズ: 1 cm x 1 cm 作製方法: Chemical Vapor Deposition (CVD) 基板オプション: R…
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Self-Supporting Three-Dimensional Graphene (Nickel Removed) (1 cm x 1 cm)
¥47,482Self-Supporting Three-Dimensional Graphene (Nickel Removed) (1 cm x 1 cm) CAS番号: 7782-42-5 基板サイズ: 1 cm x 1 cm …
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Self-Supporting Three-Dimensional Graphene (Nickel Removed) (2 cm x 2 cm)
¥64,750Self-Supporting Three-Dimensional Graphene (Nickel Removed) (2 cm x 2 cm) CAS番号: 7782-42-5 基板サイズ: 2 cm x 2 cm …
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Tin Diselenide (SnSe₂)
¥92,809Tin Diselenide (SnSe₂) CAS番号: 20770-09-6 基板サイズ: 1 cm x 1 cm 作製方法: Chemical Vapor Deposition (CVD) 基板オプション: SnS…
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Tin Disulfide (SnS₂)
¥92,809Tin Disulfide (SnS₂) CAS番号: 1315-01-1 基板サイズ: 1 cm x 1 cm 作製方法: Chemical Vapor Deposition (CVD) 基板オプション: SnS₂ 薄…
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Tin Sulfide (SnS)
¥92,809Tin Sulfide (SnS) CAS番号: 1314-95-0 基板サイズ: 1 cm x 1 cm 作製方法: 化学気相成長法（CVD） 形態オプション: 孤立結晶粒 Continuous Multilayer …
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Tungsten Diselenide (WSe₂)
¥92,809Tungsten Diselenide (WSe₂) CAS番号: 12067-46-8 基板サイズ: 1 cm x 1 cm 作製方法: Chemical Vapor Deposition (CVD) 基板オプション:…